第三代B4T-5/6/8系列3D-PDI分子合成完毕，同时她也合成了第三代B3T-6系列3D-PDI分子，用来和前期第一、第二代B3T-6系列分子进行对比。

　　陈婉清看着每天器件效率数据都在稳步上升，她做实验的工作效率直接提高了20+%，PCE10:IDT-ICIN和FTAZ:IDT-ICIN两个体系的表征数据已经凑齐了九成，就差周五的TEM和周六的GIWAXS了。

　　不过，她这周光忙着做实验了，大多数的数据只是处于原始数据状态，还没来得及处理。

　　许秋将韩嘉莹合成出来的几种材料复制进模拟实验室II中，开始性能摸索，随后和学妹一起进入实验室，准备光源样品，从在裁硅片开始。

　　周五一大早。

　　许秋进入模拟实验室II，查阅结果。

　　学妹的B4T-8系列3D-PDI受体和PCE10给体搭配下的有机光伏体系的效率最高。

　　最高值%!

　　“最高效率还真被爆了啊，还没捂热乎呢。”许秋嘀咕了一句，“不过，至少曾经拥有过。”

　　许秋心态倒是很轻松，就算学妹做的更高，她发的文章自己也是二作，四舍五入一下，大概就相当于是自己破了自己的记录嘛。

　　而且对于这个结果他也不是很意外，毕竟学妹的二代6系列效率最高值都已经%了，而现在是三代8系列，后者采用了在许秋体系中颇有成效的两步分子结构优化手段——氮原子位侧链修饰、引入硒原子，效率飙升也很正常。

　　而且，这次的模拟实验，许秋整合了前期3D-PDI体系的所有器件加工策略，花了整整十二个小时，测试了数百种条件，为的就是一步到位，直接把效率做上去。

　　换言之，想进一步优化器件加工条件，使得效率向上提升，空间并不大，基本上已经达到了材料的性能上限。

　　想要进一步提升，除非拓宽给体库或者颠覆现有的涂膜方式。

　　前者很好理解，但是需要时间积累。

　　后者的话，指的是研究者们开发出来的特殊涂膜方式，包括许秋之前开发的热旋涂法；还有一些文献中报道的，比如“一层又一层”旋涂法，就是把给体、受体分开旋涂两次；“倒着涂”旋涂法，在旋涂成膜的最后过程中，让基片正面朝下旋转等等……

　　关于特殊涂膜方式的文章，只有零零星星的三两篇，被报道后几乎没什么模仿者，而且效果看起来也一般。

　　就比如ACSAMI的一篇文章，用的就是“倒着涂”旋涂法，他们采用的标准PCE10:PCBM体系，正常旋涂得到的器件效率为%，而“倒着涂”之后，效率提升至%，然而这个体系，许秋随随便便做出来的标样效率都在10%以上，所以他总觉

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