2)第二十章 真空镀膜(上)_我有科研辅助系统
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  块金属板,大概六厘米长,三厘米宽,一厘米厚,金属板通过六角螺丝与平台连接,中间有一定的缝隙。

  “学姐,这个是干什么用的?”许秋指着平台问道。

  “这个是电流加热装置,将用钨丝制成的篓,放在两个平台间,用金属板压住钨篓两端,通电流对钨篓加热,可达到很高的温度,使其内部靶材气化,进行蒸镀。”陈婉清道。

  许秋继续看向舱体,中间部分有一探头状的物体,像个吊灯一样悬挂在束源炉和平台的上方。

  学姐顺着许秋的目光看去,主动介绍道:

  “这个是晶振装置,探头处装有晶振片,用来实时检测蒸镀的薄膜厚度。它的位置一定不能乱动,因为现在的参数是已经标定过的,如果移动了它的位置,对膜厚的检测结果就不标准了。此外晶振片也是有寿命的,所以需要定期更换晶振片,并重新标定厚度。”

  舱体最上面是一块大的圆形金属挡板,以及一个可以旋转的样品台。

  陈婉清道:“蒸镀过程中,气态靶材分子会在舱体内运动。当金属挡板打开时,可以阻挡靶材分子到达样品表面,所以它叫做样品挡板。开始蒸镀时,需将其打开。样品台可以旋转,其下方有掩模版,用来得到特定的薄膜图案,而它上面的样品支架可以取下来装样品,装好后再安装回去。”

  将舱内情况了解完毕后,许秋开始做蒸镀前的准备工作。

  两批基片的器件结构不同,需要分两次进行蒸镀。

  第一批是正常结构,也就是蒸镀钙和铝。

  许秋首先在钨篓中装满%纯度的铝锭,然后让学姐帮忙打开钙束源炉的挡板。

  挡板的开关是数控的,需要在手套箱外的总控台操作。

  打开挡板后,他取出束源炉内部的陶瓷坩埚,将上次使用后剩余的残渣倒出,再加入两勺新的%纯度的钙粉末。

  陶瓷坩埚是特质的,可以至少承受1000摄氏度以上的高温,且十分稳定,不会与靶材反应,产生杂质。

  完成后,他让学姐关闭束源炉挡板。

  最后,将一片片基片正面朝下放置在样品支架上,再将样品支架放回样品台。

  “学姐,没有问题吧。”许秋看向陈婉清。

  “嗯嗯。”陈婉清点点头。

  许秋将舱门从右往左推回原位,然后旋转舱门上下的两个旋钮,直至无法转动。

  他离开手套箱,跟随学姐来到总控台,剩下的操作主要在总控台完成。

  总控台接近两米高,由多个模块拼接而成,一共有30多个控制按钮。

  陈婉清道:“旁边有操作说明,严格按照说明来做就行。”

  许秋拿起《真空镀膜仪使用说明》翻看,只有两页A4纸,并没有想象中的多。

  他表面上在看说明书,实则在心中查看系统。

  系统已经将学姐的技能复制了,可以看到每步操作的细节,所以文字版的说明书意义已然不大。

  “我看完了。”许秋道。

  “这么快?”陈婉清道:“行,那你来操作吧,有什么问题我会提醒你的。”

  第一步是打开循环水系统和空气泵。

  前者用来冷却分子泵,而后者用来推动样品挡板。

  许秋找到位于总控台后面的循环水装置,按下绿色的启动键,便听到仪器发出嗡鸣声,仔细听的话还有水流声。

  然后,他走到空气泵旁边。

  空气泵上有一个橙红色的瓶盖大小的开关,需要拉起来,才能启动机器。

  许秋试着向上拉,开关却纹丝不动,他也不敢太用力,便说道:

  “学姐,打不开。”

  “用力啊。”

  “砰!”

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